溅射靶材是一种用于材料成膜的材料，其主要成型工艺有热等静压成型、熔炼铸造、粉末烧结等方法，选择方式主要依赖于材料自身的特性。

一般情况下，金属靶材采用真空熔炼工艺制备；合金靶材用粉末冶金的方法制备；陶瓷靶材用热压烧结的方法的比较多。

纯度是溅射靶材的基础。高纯度溅射靶材的应用领域有：电子及信息产业、玻璃镀膜领域、太阳能、半导体行业、耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

溅射靶材的主要分类：

1.金属靶材 2.合金靶材 3.陶瓷化合物靶材

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https://www.qkmaterials.com/materials/sputtering-targets.html